負壓法二氧化氯發生器採(cǎi)用化學法現場制備二氧化氯並(bìng)同時進行投加的設備，外形結構爲落地櫃式。投加水射

器在櫃式發生器内。T70G4000生成CLO₂（二氧化氯）的反應物：NaCLO₂（亞氯酸鈉）+

HCL（鹽酸）。T70GC4000生成CLO₂的反應物
：NaCLO₂+HCL+NaCLO（次氯酸鈉）。

T70GT4000生成CLO₂的反應物：NaCLO₂+CL₂（氯氣）。所産生CLO₂的生成物含量在

95%以上。該系統爲負壓投加系統（不同於(yú)採(cǎi)用計量泵的正壓投加系統）。因而**性及可靠

性更高。

      壓力水流經水射器生成負(fù)壓，吸入二氧化氯溶液與水射器投加水混合，投入工藝過(guò)程。流入

發生器的反應物，由浮子流量計測(cè)量流量。如果是手動(dòng)操作的發生器，反應物投加量和二氧化氯

發生量由流量計本身帶(dài)的手動閥控制。反應物和用以優化反應的水被抽取進入反應塔
，從(cóng)塔中流

出的二氧化氯溶液流過一個觀察鏡
，可以通過顔色來估計産(chǎn)出量。如果系列爲自動(dòng)控制，流過流

量計的反應物由一個三個閥(fá)座的CHLOROMATIC閥(fá)控制，這個閥(fá)的閥(fá)芯的形狀可以反映正確(què)的

劑量比。閥的執行器可接受外部控制裝置的4~20mA控制信号，自動(dòng)調(diào)節二氧化氯的發生量。

負壓法二氧化氯發生器 特      點

• 高産出率：CLO₂産生率＞95%
• 運行費用低：使用商品濃度原料，無需稀釋
• 低維護費用：可動部件少，負壓運行，部件過壓損壞率低
• 準確：原料進入爲流量計直接測量，精度高
• 運行**：負壓操作，無産生壓力的泵，無外洩之慮直接投加，不需存儲所産生的CLO₂
• 高效自控：可實現多種自動控制方式

負壓法二氧化氯發生器 技術參數

• 投加量：T70G4000 80g/h~10kg/h   T70GT4000 15kg/h~30kg/h

                   T70GC4000 350g/h~9kg/h

• 低發生量：T70G4000  80,150g/h     NaCLO2   7.5%（80g/L，у=1.07）

                     HCL  8.5%（88g/L,у=1.04）

• 消耗
  ：CLO₂（1g）←→NaCLO₂（23.2mL）+HCL（23.2mL）
• 高發生量：300g~10kg/h~30kg/h  NaCLO₂  25%（306g/L,у=1.22）

                     HCL  32%（371g/L,у=1.16）  NaCLO  14%（у=1.20）

• 消耗：CLO₂（1g）←→NaCLO₂（6mL）+HCL（4.3mL）

                CLO₂（1g）←→NaCLO₂（4.25mL）+HCL₂（0.55gg）

• 稀釋水壓力：≤150kpa穩定
• 控制輸入：4~20mA
• 化學品容器标高
  ：容器底部min1.5m高度
• 水射器工作水壓：max.2.0MPa
• 發生器環境溫度：5~30℃，*佳20℃
• 自動控制輸出信号：1.控制閥位4~20mA（1）

                               2.自動手動切換SPDT觸點（1）

                               3.低真空觸點SPDT觸點（1）（選擇項）

                               4.反應物缺乏報警SPDT觸點（2）

• 調節範圍：建議50~100%投加量
• 控制方式：詳見下圖
• 外形尺寸：610（L）×1524（H）×650（W）mm

注：反應物中不能含有氫氟酸。從反應物容器至發生器管路上應安裝過濾器。

二氧化氯發生器投加系統控制方式

      對(duì)控制系統配置選擇殘(cán)餘量及複合環路控制需另配分析儀表和外部控制器，系統配置設計

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A.水流量穩定和被氧化物質穩定的工藝過(guò)程       B.水流量變(biàn)化和被氧化物質穩定的工藝過(guò)程

                     手動控制                                               流量比例控制

C.水流量穩定和被氧化物質不穩定的工藝過(guò)程  D.水流量變(biàn)化和被氧化物質不穩定的工藝過(guò)程

           二氧化氯殘餘量負反饋控制            二氧化氯殘餘量和水流量複合環控制